產品介紹
一．設備概述： 程控擴散爐采用儀表程序升溫控方式操作，該設備用于半導體等行業的3-4英寸工藝硅片擴散、氧化、退火、合金等工藝。
二．設備類型：
方式：
手動操作方式，小工作臺面
可配工藝管數量：
1-4管系統
凈化臺潔凈度：
1000級（10000級廠房）
氣體流量控制：
均用進口浮子流量計控制
送取片方式：
手動推拉
使用類型：
3-4寸爐管
三．設備主要參數：
工作溫度：
300～1290℃
爐管有效口徑:
￠150-190mm
總功率：
15-24KVA/管 保溫功率：6-10KVA/管
三相五線制：
380V±10%，50Hz±10%，次級線不小于35平方高溫線
報警:
具有超溫報警，斷偶報警，氣體互鎖等功能
恒溫區長度及段數：
400-1100mm（3-5段控溫）
控溫精度：
± ℃（≧1000℃）
單點溫度穩定性：
±1℃/72h
控溫方式：
高精度儀表程序控制
熱偶類型:
熱電偶采用K/S/R型，每管Spike 4-6支熱偶
可控升溫范圍：
(500～1285℃)0--15℃/min
可控降溫范圍：
(500～1285℃)0--10℃/min
設備總外形尺寸：
根據設備配置不同,尺寸有所不同
四．主要構成：
1、
設備主機
2、
加熱系統
3、
排風冷卻系統
4、
排箱（和設備主機做為一體）
5、
控制系統
設備主要特點和優勢
1★程序可以實現手/自動工作，在停電或中途停機后，再次啟動可以根據工藝手動升溫，節省工藝時間；
2★冷端采用PT100檢測環境溫度進行溫度補償，避免環境溫度變化，對爐膛溫度產生影響，避免層間干擾；
3★氣體流量控制采用浮子流量計控制；
4★具有多種報警功能及安全保護功能；
5★恒溫區手動調整，可準確控制反應管的實際工藝溫度；
