晶圓鍵合介紹:晶圓鍵合技術(shù)是將兩片晶圓相互結(jié)合,對于某些鍵合是利用表面原子相互反應(yīng),產(chǎn)生共價鍵,使兩者結(jié)為一體。也可以是利用中間介質(zhì)的粘合性使兩個片子相互結(jié)合。
晶圓鍵合可以滿足微電子材料,光電材料及其納米等級微機(jī)電元件的制作和封裝需求,可結(jié)合不同晶格、不同種類的材料。在器件的物理特性,化學(xué)特性,電子特性都有非常廣闊的前景。
適用于實(shí)驗(yàn)室研發(fā),小批量生產(chǎn)的晶圓級鍵合提供服務(wù)。在工藝過程中對溫度和壓力可控制、實(shí)現(xiàn)動態(tài)降溫和快速升溫的功能、以及計算機(jī)控制的晶圓處理過程。
該鍵合機(jī)可以實(shí)現(xiàn)陽極鍵合,共晶鍵合,熔融鍵合等等,可以實(shí)現(xiàn)真空和氮?dú)猸h(huán)境下鍵合。同時鍵合機(jī)還兼容使用SUSS MA/BA掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和開放式設(shè)計的夾具,實(shí)現(xiàn)對準(zhǔn)鍵合。
技術(shù)指標(biāo):
Wafer size: 4inch,6inch
Maximumtemperature:500℃
Maximumpressure:4000mBar
Maximumvoltage:-2000V
Ultimatepressure:1×10-4 mBar
Overlay error:±5μm