產(chǎn)品介紹
廈門韞茂原子層沉積系統(tǒng)廠家
原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。
原子層沉積系統(tǒng)廠家產(chǎn)品描述：
廈門韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式ALD原子層沉積設備是材料研究的有力設備之一，它可以在4寸晶元（向下兼容）和微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積，具有廣泛的應用領(lǐng)域，設各配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻，該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、晶元載盤，全自動溫控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現(xiàn)場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項，是能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的研發(fā)工具
廈門韞茂科技有限公司為您提供原子層沉積系統(tǒng)廠家的參數(shù)、價格、型號、原理等信息，產(chǎn)地為福建、品牌為韞茂，型號為MiniDesktopALD，價格為50萬RMB，更多相關(guān)信息可咨詢，公司客服電話7*24小時為您服務。
原子層沉積系統(tǒng)廠家
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