產品介紹
特點:
經典消光法橢偏測量原理 儀器采用消光法橢偏測量原理，易于操作者理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。
方便安全的樣品水平放置方式
采用水平放置樣品的方式，方便樣品的取放。
緊湊的 結構
集成 設計，簡潔的儀器外形通過USB接口與計算機相連，方便儀器使用。
高穩定性光源
采用半導體激光器作為探測光的光源，穩定性高，噪聲低。
豐富實用的樣品測量功能
可測量納米薄膜的膜厚和折射率、塊狀材料的復折射率等。
便捷的自動化操作
儀器軟件可自動完成樣品測量，并可進行方便的測量數據分析、儀器校準等操作。
安全的用戶使用權限管理
軟件中設置了用戶使用權限（包括：管理員、操作者等模式），便于儀器管理和使用。
可擴展的儀器功能
利用本儀器，可通過適當擴展，完成多項偏振測量實驗，如馬呂斯定律實驗、旋光測量實、旋光等。
應用領域:
DHEX3適合于教學中單層納米薄膜的薄膜厚度測量，也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。
DHEX3可測量的樣品涉及微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領域。
技術指標:
項目
技術指標
儀器型號
DHEX3
測量方式
自動測量
樣品放置方式
水平放置
光源
半導體激光器，波長635nm
膜厚測量重復性*
(對于Si基底上100nm的SiO2膜層)
膜厚范圍
透明薄膜：1-4000nm
吸收薄膜則與材料性質相關
折射率范圍 – 10
探測光束直徑Φ2-3mm
入射角度30°-90°，精度 °
偏振器方位角讀數范圍0-360°
偏振器步進角 °
樣品方位調整
Z軸高度調節：16mm
二維俯仰調節：±4°
允許樣品尺寸
圓形樣品直徑Φ120mm，矩形樣品可達120mm x 160mm
配套軟件
* 用戶權限設置
* 多種測量模式選擇
* 多個測量項目選擇
* 方便的數據分析、計算、輸入輸出
外形尺寸
（入射角度70°時）450*375*260mm
儀器重量（凈重）
15Kg
注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續測量30次的標準差。
性能保證:
ISO9001 質量體系下的儀器質量保證
專業的儀器使用培訓
專業的橢偏測量原理課程
