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EDI技術的出現改變了制備高純水只能采用混床的局面。一般混床工作時需要周期性的再生且再生過程中使用大量的化學藥品（酸堿）和純水，并造成一定的環境問題；而膜、樹脂和電化學原理相結合的EDI技術確因為其水質穩定、容易實現全自動控制、不會因再生而停機、不需化學再生、運行費用低、廠房面積小、無污水排放等優點而被廣泛使用。 相對于混床來EDI系統的進水要求要求高些一般要求進水電導率在40μS/cm2以下，為二級反滲透出水，現階段也有很多采用一級反滲透作為EDI預處理的成功應用案例。總體來說該方法與混床相比優勢明顯但在一次性投資上還是有些劣勢。 采用反滲透預處理+EDI制作超純水,其電導率一般可達到17MΩ.CM以上，工業上廣泛應用于電廠鍋爐、軍工、醫藥、電子、機械等工業領域。 1、反滲透簡介：RO（反滲透）系統的脫鹽率一般在97％以上，反滲透膜的脫鹽率可高達99.8％。通過反滲透膜的處理，水中的無機鹽類、細菌、病毒、糖類、氨基酸、COD、BOD等雜質被去除，從而達到純化和濃縮的目的。 2、EDI簡介：EDI可代替傳統的混合離子交換技術（MB-DI）生產穩定的去離子水。EDI技術與混合離子交換技術相比有如下優點： 　　①水質穩定 　　②容易實現全自動控制 　　③不會因再生而停機 　　④不需化學再生 　　⑤運行費用低 　　⑥廠房面積小 　　⑦無污水排放 　　EDI設備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達17MΩ.cm(25℃)，但是根據去離子水用途，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-17MΩ.cm(25℃)的純水。 EDI技術被制藥工業、微電子工業、發電工業和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業和化工工業的應用也日趨廣泛。 雙級反滲透+EDI高純水系統主機 　　EDI組件電流量和離子遷移量成正比。電流量由兩部分組成，一部分源于被除去離子的遷移，另一部分源于水本身電離產生的H+和0H-，這些就地產生的H+和0H-對離子交換樹脂進行連續再生。EDI組件中的離子交換樹脂可以分為兩部分，一部分稱作工作樹脂，另一部分稱作拋光樹脂，二者的界限稱為工作前沿。工作樹脂主要起導電作用，而拋光樹脂在不斷交換和被連續再生。工作樹脂承擔著除去大部分離子的任務，而拋光樹脂則承擔著去除象弱電解質等較難清除的離子的任務。