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崇明石墨盤專用真空烤盤爐，.產品介紹 真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體，爐內抽真空，被處理工件放置在爐膛內，采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。主要用于有效清除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達到有效清潔處理，提高制品質量的目的。 二、設計特點 1、后門設計熱風電機 2、降溫時風機開啟，同時兩端降溫封頭開啟，爐膛內產生如圖所示的氣體流向 3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換，達到快速降溫的目的 三、技術指標 1、使用溫度：1450℃；最高溫度：1500℃； 2、絕熱材料：石墨纖維毯、石墨紙； 4、加熱元件：石墨加熱棒； 5、冷卻方式：氣冷 + 循環風冷降溫； 6、控溫穩定度：±2℃，具有PID參數自整定功能； 7、爐膛溫度均勻度：±5℃（恒溫1500℃）； 8、氣氛: 可向爐膛內通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%； 9、真空: 10-3torr級； 10、抽氣速率：空載下，30min達到10-2torr 11、升溫功率：170kW； 12、升溫速率：15℃/min（空載）； 13、降溫速率：1450℃至80℃,240分鐘 14、腔體尺寸：1000*1000*1000mm（寬*深*高） *技術細節變動之處，恕不另行通知，具體設備參數以咨詢結果為準。

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