平面拋光機的新出路，新機會和新挑戰(zhàn)

時間：2019-09-02 16:41:24 來源： 點擊量：338

國內(nèi)目前風起云涌的半導(dǎo)體發(fā)展風已經(jīng)在民間迅速蔓延，以硅片為代表的各個供應(yīng)鏈生產(chǎn)廠家正在緊鑼密鼓地籌備，希望將半導(dǎo)體在中國做起來，提升芯片行業(yè)的技術(shù)。 平面拋光機正好也是半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展中必不可少的一個重要環(huán)節(jié)，硅片的打磨和拋光在整個硅片工藝中非常重要，硅片的厚度需要打磨，硅片表面的光潔度需要拋光來解決。所以這兩個工藝是決定半導(dǎo)體技術(shù)改革是否成功的關(guān)鍵。 而平面拋光機行業(yè)此刻正遭遇新一輪的洗牌，傳統(tǒng)的平面拋光機隨著廠家越來越多，技術(shù)越來越透明，所能帶來的利潤也逐漸微薄。如何能突破瓶頸發(fā)展新的商機已是迫在眉睫。而國家扶持半導(dǎo)體的相關(guān)政策出來后，隨著硅片生產(chǎn)廠商的積極響應(yīng)，也給平面拋光機生產(chǎn)廠家?guī)砹诵碌钠鯔C。 目前以方達為首的平面拋光機廠家已經(jīng)開始研發(fā)硅片磨拋技術(shù)，主要針對大尺寸硅片的研磨和拋光。但是在機會之余，我們也面臨一些問題和挑戰(zhàn)，相對國外而言，我們的技術(shù)是比較落后的，要想盡快有所成就還需要先向日本，德國等地學習，然后在此基礎(chǔ)上進行改良和完善，以適用我們國內(nèi)的生產(chǎn)環(huán)境。